海德漢敞開式直線光柵尺
敞開式直線光柵尺設計用于對測量精度要求*的機床和系統。
典型應用包括：
半導體業的測量和生產設備
PCB電路板組裝機
超高精度機床
高精度機床
測量機和比較儀，測量顯微鏡和其它精密測量設備
直驅電機
| 系列 | 說明 |
|---|---|
| LIC | LIC敞開式直線光柵尺能夠對行程達28 m和高速運動進行絕對位置測量。其尺寸和安裝方式與LIDA 400相同。 |
| 系列 | 說明 |
|---|---|
| LIP 200 | LIP 211和LIP 291增量式直線光柵尺輸出位置值的位置信息。正弦掃描信號在讀數頭中被高倍頻細分且其計數功能將細分的信號轉換成位置值。與所有增量式編碼器一樣，借助參考點確定絕對原點。 |
| 系列 | 說明 |
|---|---|
| LIP | 超高精度 LIP敞開式直線光柵尺擁有極小的測量步距，*的精度和重復精度。掃描方式為干涉掃描，測量基準為DIADUR相位光柵。 |
| LIF | 高精度 LIF敞開式直線光柵尺的測量基準是SUPRADUR工藝制造的玻璃基體光柵，采用干涉掃描方法。特點是精度高和重復精度高，安裝特別簡單，有限位開關和回零軌。特殊型號的LIF 481 V可用于10–7 bar的真空環境中（參見其單獨“產品信息"）。 |
| LIDA | 高速運動和大測量長度 LIDA敞開式直線光柵尺特別適合運動速度達10 m/s的高速運動應用，支持多種安裝方式，安裝特別簡單。根據相應應用要求，METALLUR光柵的基體可為鋼帶，玻璃或玻璃陶瓷。也有限位開關。 |
| PP | 二維坐標測量 PP二維編碼器的測量基準是平面DIADUR工藝制造的相位光柵，采用干涉掃描方法。用于測量平面中位置。 |
| LIP/LIF | 高真空和超高真空技術 我們的標準編碼器適用于低真空或中等真空應用。高真空或超高真空應用的光柵尺需要滿足一些特殊要求。采用的設計和材質必須滿足應用要求。更多信息，參見“真空中應用的直線光柵尺"產品信息。 以下敞開式直線光柵尺專用于高真空或超高真空應用環境。 • 高真空：LIP 481 V和LIF 481 V |
| 型號 | 基線誤差 | 基體和安裝方式 | 細分誤差 | 測量長度 | |
|---|---|---|---|---|---|
| 精度等級 | 局部 | ||||
| LIC 4113 LIC 4193 | ± 3 μm ± 5 μm | ≤ ± 0.275 μm/ 10 mm | 玻璃或玻璃陶瓷光柵尺，嵌入在安裝面中 | ± 20 nm | 240 mm 至3040 mm |
| LIC 4115 LIC 4195 | ± 5 μm | ≤ ± 0.750 μm/ 50 mm (typ.) | 鋼帶光柵尺穿入在鋁殼中并預緊 | ± 20 nm | 140 mm 至 28440 mm |
| LIC 4117 LIC 4197 | ± 3 μm ± 5 μm ± 15 μm | ≤ ± 0.750 μm/ 50 mm (typ.) | 鋼帶光柵尺穿入在鋁殼中并固定 | ± 20 nm | 240 mm 至 6040 mm |
| LIC 4119 LIC 4199 | ± 3 μm ± 15 μm | ≤ ± 0.750 μm/ 50 mm (typ.) | 鋼帶光柵尺粘貼在安裝面上 | ± 20 nm | 70 mm 至 1020 mm |
| LIC 4119 FS | ± 3 μm ± 15 μm | ≤ ± 0.750 μm/ 50 mm (typ.) | 鋼帶光柵尺粘貼在安裝面上 | ± 20 nm | 70 mm 至 1820 mm |
| 型號 | 基線誤差 | 基體和安裝方式 | 細分誤差 | 測量長度 | |
|---|---|---|---|---|---|
| 精度等級 | 局部 | ||||
| LIC 2117 LIC 2197 | ± 15 μm | 鋼帶光柵尺穿入在鋁殼中并固定 | ± 2 μm | 120 mm 至 3020 mm | |
| LIC 2119 LIC 2199 | ± 15 μm | 鋼帶光柵尺粘貼在安裝面上 | ± 2 μm | 120 mm 至 3020 mm | |
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